高エッチング耐性ナノインプリント材料

  • 嶋谷 聡
    東京応化工業(株)開発本部先端材料開発3部

書誌事項

タイトル別名
  • High Etching Stability NIL Material

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収録刊行物

  • 高分子

    高分子 61 (9), 685-686, 2012-09-01

参考文献 (4)*注記

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1570854176168238464
  • NII論文ID
    10031009206
  • NII書誌ID
    AN00084926
  • ISSN
    04541138
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • CiNii Articles

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