FT-IR-ATR,FT-IR-RASを用いたSi自然酸化膜成長過程の観察

書誌事項

タイトル別名
  • Observation of Sinative oxide growth using FT-IR-ATR and FT-IR-RAS

この論文をさがす

説明

フーリエ赤外分光(Fourier-transformInfrared Spectroscopy)のATR(Attenuated Total Reflection)法とRAS(Reflection Absorption Spectroscopy)法を用いて、原子レベルで平坦化したSi(111)面に水中酸化により自然酸化膜が成長する様子を観察した。ATR法ではSi-H結合のRAS法ではSi-O結合の変化を観察した。酸化に際し、ステップ・エッジのテラス部分に対する優先性は認められなかった。また、酸化初期状態のRASスペクトル形状とその酸化時間に対する変化は、表面に島状に析出した酸化物があると仮定すると説明できた。これは、酸化はLayer-by-layerではなく島状に進行する事を示唆する。

収録刊行物

キーワード

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1570854177467475968
  • NII論文ID
    110003309927
  • NII書誌ID
    AN10013254
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • CiNii Articles

問題の指摘

ページトップへ