高周波スパッタ蒸着法による多結晶Si薄膜の低温成長に関する研究(第4報) -結晶粒の大粒径化に関する検討-

Details 詳細情報について

• CRID

  1571417124029473536

• NII Article ID

  10002806200

• NII Book ID

  AN1018673X

• Text Lang

  ja

• Data Source

  • CiNii Articles