256Mフラッシュメモリ用0.54μm^2 SAHF (Self-Aligned HSG Floating gate) セル
書誌事項
- タイトル別名
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- A 0.54μm^2 Self-Aligned, HSG Floating Gate Cell (SAHF Cell) for 256Mbit Flash Memories
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説明
256Mbitフラッシュメモリに適したセル面積 0.54μm^2のSAHFセル(Self-Aligned HSG Floating gate cell)を開発した。このセルは、フローティングゲートの上面にHSG (Hemispherical-gramed)ボリシリコンを適用することにより、フローティングゲート上面の実効的な面積を増加させた。この結果、ボリシリコン膜パターンに対して自己整合で形成された埋め込み拡散層と、1つのボリシリコン膜パターンよりなるフローティングゲートを持つメモリセルにおいても、十分高い容量比0.8を得ることができ工程を簡略化する事が可能となった。
収録刊行物
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- 電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス
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電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 96 (63), 69-76, 1996-05-23
一般社団法人電子情報通信学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1571698602396228736
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- NII論文ID
- 110003309680
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- NII書誌ID
- AN10013254
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles