RF-DC 結合形マグネトロンスパッタ法による Mg ターゲットにおける Ar-N_2 ガスの放電特性

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タイトル別名
  • Discharge characteristics for Mg target using rf-dc coupled magnetron sputtering in Ar-N_2 gas plasma

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説明

Mg は水素吸蔵能力を持ったインテリジェントマテリアルとして期待される。筆者等は、RF-DC 結合形マグネトロンスパッタ法による W 薄膜成長速度の DC 制御効果を明らかにした。本研究では、Mg の窒化物である Mg_3N_2 薄膜の形成を Ar-N_2 混合ガス中、Ar^+ イオンエネルギーを直接制御できる RF-DC 結合形マグネトロンスパッタ法を用いて試みた。また、反応スパッタにおける放電特性と反応スパッタ膜の組成についても検討した。

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1572543027265283840
  • NII論文ID
    110003340790
  • NII書誌ID
    AN10489017
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • CiNii Articles

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