Drung式SQUID素子の製作

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タイトル別名
  • Fabrication of Drung Type SQUID

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説明

バイアス電流の注入を非対称にしAPFの向きに注意してdV, dΦが大きい点に停留点ができるという所望の特性を持つDrung式SQUIDを製作した。Ic、Rのパラメータをふる実験を行なった結果、IcR積を知ることでVs、dV, dΦ、Φnなどの特性が予想できることが示された。またバッチごとのバラツキの測定により4.0fT/√Hz>程度の磁場分解能をもつSQUIDの量産可能性を示した。

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1572543027266872704
  • NII論文ID
    110003187449
  • NII書誌ID
    AN10012885
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • CiNii Articles

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