透明導電膜(ITO)の新しい成膜装置

参考文献5件
  • 粟井 清
    住友重機械工業株式会社技術本部 企画調査部

書誌事項

タイトル別名
  • A new ionplating process for transparent electrically conductive indium tin oxide (ITO) films

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説明

高密度プラズマが生成可能な圧力勾配型プラズマガンにビーム修正装置を付加した新しいイオンプレーティング法(URT-IP法)は, 大面積基板に均一な成膜が可能である. URT-IP法は, 種々の薄膜の高速成膜法として, ポテンシャルの高い成膜法である. 本報では, URT-IP法によりフラットパネルディスプレイの透明導電膜(ITO)の成膜に注目した. プロトタイプマシンを用いた実験では, 低比抵抗ITO膜が, 低い基板温度で, かつ従来のスパッタリング法より高速で得られ, 従来プロセスに十分競合できることがわかった. 1997年には商用生産機を完成させ, 従来のスパッタリング装置への代替を計って行く.

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参考文献 (5)*注記

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キーワード

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1573105977228374144
  • NII論文ID
    110003268562
  • NII書誌ID
    AN10060775
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • CiNii Articles

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