Ru-Mo合金を用いた金属/high-k 絶縁膜ゲートスタックの実効仕事関数制御
書誌事項
- タイトル別名
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- Wide Controllability of Flatband Voltage in metal/high-k gate stack using Ru-Mo alloys
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収録刊行物
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- 電気学会研究会資料. EFM, 電子材料研究会
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電気学会研究会資料. EFM, 電子材料研究会 2008 (1), 3-6, 2008-05-14
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1573387450723637120
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- NII論文ID
- 10025649116
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- NII書誌ID
- AN10442556
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles
