BiCS型立体構造NANDフラッシュメモリーにおけるゲート長、ゲート間隔及び積層数の設計指針

  • 平澤 黎生
    中央大学理工学部電気電子情報通信工学科
  • 宮地 幸祐
    中央大学理工学部電気電子情報通信工学科
  • 竹内 健
    中央大学理工学部電気電子情報通信工学科

書誌事項

タイトル別名
  • Control Gate Length, Spacing and Stacked Layer Number Design for BiCS NAND Flash Memory

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説明

ビットコスト削減のため、立体構造NAND型フラッシュメモリが提案されている。本論文ではBics型NANDフラッシュメモリの設計指針を3次元デバイスシミュレーションにより示す。 Bics型NANDフラッシュメモリのスケーラビリティを平面構造NAND型フラッシュメモリと比較しつつ検討した。ゲート長とゲート間隔をパラメータとしてシミュレーションを行い、各種電気的特性の要望を満たすゲートピッチを調べた。その結果、メモリ・ウィンドウとプログラム・ディスターブの観点からゲート長とゲート間隔は等しいことが望ましいことが分かった。また、BiCS空孔の直径が90nmにおいてゲートピッチ40mmが達成可能であることが判明した。40mmピッチで18層積層した場合、これは実効的に15mm世代平面構造型NANDフラッシュメモリのセノレサイズに相当する。

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1573950402675686400
  • NII論文ID
    110009667347
  • NII書誌ID
    AN10013276
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • CiNii Articles

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