Optical coupling between SiO<inf>x</inf>N<inf>y</inf> waveguide and Ge mesa structures for bulk-Si photonics platform

Hidetaka Nishi, Yasuhiko Ishikawa, Koji Yamada, Tsuyoshi Yamamoto, Kota Okazaki, Tatsurou Hiraki, Kazumi Wada, Tai Tsuchizawa

doi:10.1109/group4.2015.7305980

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Optical coupling between SiO<inf>x</inf>N<inf>y</inf> waveguide and Ge mesa structures for bulk-Si photonics platform

DOI

Hidetaka Nishi
Yasuhiko Ishikawa
Koji Yamada
Tsuyoshi Yamamoto
Kota Okazaki
Tatsurou Hiraki
Kazumi Wada
Tai Tsuchizawa

説明

We successfully confirmed controllable optical coupling between a germanium mesa on a bulk-silicon wafer and a low-loss silicon oxynitride waveguide. This coupling structure can be adopted for constructing various active devices on a CMOS-process-friendly bulk-silicon photonics platform.