Molecular dynamics simulation of the plasma-surface interaction during plasma etching processes
Bibliographic Information
- Title
- Molecular dynamics simulation of the plasma-surface interaction during plasma etching processes
- Other Title
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- プラズマ エッチング プロセス ニ オケル プラズマ - ヒョウメン ソウゴ サヨウ ノ ブンシ ドウリキガクテキ ケイサン ニ ヨル ケンキュウ
- プラズマエッチングプロセスにおけるプラズマー表面相互作用の分子動力学的計算による研究
- Author
- Ohta, Hiroaki
- Alias Name
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- 太田, 裕朗
- オオタ, ヒロアキ
- University
- Kyoto University
- Types of degree
- 博士(エネルギー科学)
- Grant ID
- 甲第11119号
- Degree year
- 2004-07-23
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Description
博士論文
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1910020910729993216
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- NII Article ID
- 500001248441
- 500002177849
- 500000271769
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- HANDLE
- 2433/145252
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- NDL BIB ID
- 000007553541
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- Text Lang
- en
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- Data Source
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- IRDB
- NDL Search