High rate growth and characterization of crystalline silicon films from inductively-coupled SiH4 plasma
書誌事項
- タイトル
- High rate growth and characterization of crystalline silicon films from inductively-coupled SiH4 plasma
- タイトル別名
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- 誘導結合型SiH4プラズマからの高結晶性シリコン薄膜の高速堆積
- ユウドウ ケツゴウガタ SiH4 プラズマ カラ ノ コウケッショウセイ シリコン ハクマク ノ コウソク タイセキ
- 著者
- Kosku, Nihan
- 著者別名
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- コスク, ニハン
- 学位授与大学
- 広島大学
- 取得学位
- 博士 (工学)
- 学位授与番号
- 甲第3717号
- 学位授与年月日
- 2005-09-06
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説明
博士論文
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1920302385021875968
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- NII論文ID
- 500002250764
- 500000348779
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- NDL書誌ID
- 000008377015
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- 本文言語コード
- en
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- データソース種別
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- NDLサーチ