Hexagonality and stacking sequence dependence of etching properties in Cl_2-O_2-SiC system
書誌事項
- タイトル
- Hexagonality and stacking sequence dependence of etching properties in Cl_2-O_2-SiC system
- 著者
- T.Hatayama, 他3名
収録刊行物
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- Mat.Sci.Forum 645巻
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Mat.Sci.Forum 645巻 771-774, 2010