Application of Thermal Plasma Jet Irradiation to Crystallization and Gate Insulator Improvement for High-Performance Thin-Film Transistor Fabrication

書誌事項

タイトル
Application of Thermal Plasma Jet Irradiation to Crystallization and Gate Insulator Improvement for High-Performance Thin-Film Transistor Fabrication
著者
S.Higashi, S.Hayashi, Y.Hiroshige, Y.Nishida, H.Murakami, S.Miyazaki

収録刊行物

関連プロジェクト

もっと見る

詳細情報

  • CRID
    1010000782110617856
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN

問題の指摘

ページトップへ