Suppression of oxygen vacancy formation in Hf-based high-k dielectrics by lanthanum incorporation

書誌事項

タイトル
Suppression of oxygen vacancy formation in Hf-based high-k dielectrics by lanthanum incorporation
著者
N., Umezawa・K., Shiraishi・S., Sugino, et. al.

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詳細情報

  • CRID
    1010282257417325972
  • 資料種別
    journal article
  • データソース種別
    • KAKEN

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