Plasma processing : proceedings of the Symposium on Plasma Etching and Deposition
書誌事項
- タイトル
- "Plasma processing : proceedings of the Symposium on Plasma Etching and Deposition"
- 責任表示
- edited by R.G. Frieser, C.J. Mogab ; [sponsored by] Dielectrics and Insulation and Electronics Divisions
- 出版者
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- Electrochemical Society
- 出版年月
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- c1981
- 書籍サイズ
- 23 cm
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注記
Includes bibliographical references and indexes
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130000794222815744
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- NII書誌ID
- BA88926207
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- LCCN
- 81065237
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- Web Site
- https://lccn.loc.gov/81065237
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Pennington, NJ (10 South Main St., Pennington 08534)
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- 分類
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- LCC: TK7871.85
- DC19: 621.3815/2
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- データソース種別
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- CiNii Books
