Metrology, inspection, and process control for microlithography XIV : 28 February - 2 March 2000, San Clara, California
CiNii
所蔵館 2館
書誌事項
- タイトル
- "Metrology, inspection, and process control for microlithography XIV : 28 February - 2 March 2000, San Clara, California"
- 責任表示
- Neal T. Sullivan chair/editor ; sponsored and published by SPIE--the International Society for Optical Engineering ; cooperating organizations SEMI-Semiconductor Equipment and Materials International SEMATECH
- 出版者
-
- SPIE
- 出版年月
-
- c2000
- 書籍サイズ
- 28 cm
この図書・雑誌をさがす
注記
Includes bibliographical references and index
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1130000794245283968
-
- NII書誌ID
- BA60711510
-
- ISBN
- 081943616X
-
- 本文言語コード
- en
-
- 出版国コード
- us
-
- タイトル言語コード
- en
-
- 出版地
-
- Bellingham, Wash.
-
- データソース種別
-
- CiNii Books