Electron-beam, X-ray, and ion-beam technology : submicrometer lithographies VIII : 1-3 March 1989, San Jose, California
書誌事項
- タイトル
- "Electron-beam, X-ray, and ion-beam technology : submicrometer lithographies VIII : 1-3 March 1989, San Jose, California"
- 責任表示
- Arnold W. Yanof, chair/editor ; sponsored by SPIE--the International Society for Optical Engineering
- 出版者
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- SPIE
- 出版年月
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- c1989
- 書籍サイズ
- 28 cm
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注記
Proceedings of the SPIE Symposium on Microlithography
Includes bibliographical references
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130000794705729024
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- NII書誌ID
- BA12683130
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- ISBN
- 0819401242
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- LCCN
- 89060655
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- Web Site
- https://lccn.loc.gov/89060655
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Bellingham, Wash., USA
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- 分類
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- LCC: TK7874
- DC20: 621.381/52
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- データソース種別
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- CiNii Books