イオン照射による薄膜用基板の表面制御 : 結晶性薄膜作製の低温プロセス化
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書誌事項
- タイトル
- "イオン照射による薄膜用基板の表面制御 : 結晶性薄膜作製の低温プロセス化"
- 責任表示
- 研究代表者 山内和人
- 出版者
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- 大阪大学工学部
- 出版年月
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- 1997.4
- 書籍サイズ
- 31 cm
- タイトル別名
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- イオン ショウシャ ニ ヨル ハクマクヨウ キバン ノ ヒョウメン セイギョ : ケッショウセイ ハクマク サクセイ ノ テイオン プロセスカ
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注記
[課題番号]: 07555040
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130000794730988672
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- NII書誌ID
- BB27984342
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- 本文言語コード
- ja
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- 出版国コード
- ja
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- タイトル言語コード
- ja
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- 出版地
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- [吹田]
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- データソース種別
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- CiNii Books