超音速分子線,ラジカル原子線を用いたシリコン表面プロセスの新方式
CiNii
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書誌事項
- タイトル
- "超音速分子線,ラジカル原子線を用いたシリコン表面プロセスの新方式"
- 責任表示
- 研究代表者 並木章
- 出版者
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- [九州工業大学]
- 出版年月
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- 1998.3
- 書籍サイズ
- 30cm
- タイトル別名
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- チョウオンソク ブンシセン ラジカル ゲンシセン オ モチイタ シリコン ヒョウメン プロセス ノ シンホウシキ
- 平成8年度〜平成9年度科学研究費補助金(基盤研究(A)(2))研究成果報告書
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注記
課題番号: 08555008
研究分担者: 三宅竜也
参考文献
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130000796403216128
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- NII書誌ID
- BA78316356
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- ja
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- タイトル言語コード
- ja
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- 出版地
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- [北九州]
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- データソース種別
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- CiNii Books