Advances in resist technology and processing XI : 28 February-1 March 1994, San Jose, California

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書誌事項

タイトル
"Advances in resist technology and processing XI : 28 February-1 March 1994, San Jose, California"
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Omkaram Nalamasu chair/editor ; sponsored and published by SPIE--the International Society for Optical Engineering
出版者
  • SPIE
出版年月
  • c1994
書籍サイズ
28 cm

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Includes bibliographical references and index

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1130000796921007104
  • NII書誌ID
    BA27423643
  • ISBN
    0819414905
  • 本文言語コード
    en
  • 出版国コード
    us
  • タイトル言語コード
    en
  • 出版地
    • Bellingham, Wash., USA
  • データソース種別
    • CiNii Books
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