Advances in resist technology and processing XVII : 28 February - 1 March 2000, Santa Clara, USA
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書誌事項
- タイトル
- "Advances in resist technology and processing XVII : 28 February - 1 March 2000, Santa Clara, USA"
- 責任表示
- Francis M. Houlihan, chair/editor ; sponsored by SPIE--the International Society for Optical Engineer
- 出版者
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- SPIE
- 出版年月
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- c2000
- 書籍サイズ
- 28 cm
- シリーズ名/番号
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- SET
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注記
Includes bibliographical references and index
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130000797044318848
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- NII書誌ID
- BA60711838
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- ISBN
- 0819436178
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Bellingham, Wash.
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- データソース種別
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- CiNii Books