Ultrathin SiO[2] and high-K materials for USLI gate dielectrics : symposium held April 5-8, 1999, in San Francisco, California, U.S.A.

Web Site CiNii 所蔵館 8館

書誌事項

タイトル
"Ultrathin SiO[2] and high-K materials for USLI gate dielectrics : symposium held April 5-8, 1999, in San Francisco, California, U.S.A."
責任表示
editors, H.R. Huff ... [et al.]
出版者
  • Materials Research Society
出版年月
  • 1999
書籍サイズ
24 cm

この図書・雑誌をさがす

注記

Includes bibliographical references

関連図書・雑誌

もっと見る

詳細情報 詳細情報について

ページトップへ