Advances in resist technology and processing XVIII : 26-28 February, 2001, Santa Clara, [California] USA
書誌事項
- タイトル
- "Advances in resist technology and processing XVIII : 26-28 February, 2001, Santa Clara, [California] USA"
- 責任表示
- Francis M. Houlihan, chair/editor ; sponsored and published by SPIE--the International Society for Optical Engineering ; cooperating organizations, SEMI--Semiconductor Equipment and Materials International, International SEMATECH
- 出版者
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- SPIE
- 出版年月
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- c2001
- 書籍サイズ
- 28 cm
- シリーズ名/番号
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- : set
- タイトル別名
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- Advances in resist technology and processing 18
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注記
Includes bibliographical references and author index
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130003902915151872
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- NII書誌ID
- BB29368259
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- ISBN
- 0819440310
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- LCCN
- 2002283519
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- Web Site
- https://lccn.loc.gov/2002283519
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Bellingham, Washington
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- 分類
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- LCC: TR940
- DC21: 621.3815/31
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- 件名
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- データソース種別
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- CiNii Books