Advanced gate stack, source/drain, and channel engineering for si-based CMOS 6 : new materials, processes, and equipment
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書誌事項
- タイトル
- "Advanced gate stack, source/drain, and channel engineering for si-based CMOS 6 : new materials, processes, and equipment"
- 責任表示
- editors, E.P. Gusev ... [et al.]
- 出版者
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- Electrochemical Society
- 出版年月
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- c2010
- 書籍サイズ
- 23 cm
- シリーズ名/番号
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- : hardcover
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130009670188468623
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- NII書誌ID
- BC12706988
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- ISBN
- 9781566777919
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Pennington, N.J.
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- データソース種別
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- CiNii Books
