Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions
書誌事項
- タイトル
- "Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions"
- 責任表示
- edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
- 出版者
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- Noyes Publications
- 出版年月
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- c1990
- 書籍サイズ
- 25 cm
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注記
Includes bibliographical references and index
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130282268959565696
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- NII書誌ID
- BA18754617
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- ISBN
- 0815512201
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- LCCN
- 89022834
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- Web Site
- https://lccn.loc.gov/89022834
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Park Ridge, N.J.
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- 件名
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- LCSH: Plasma engineering
- LCSH: Semiconductors -- Etching
- LCSH: Plasma etching
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- データソース種別
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- CiNii Books
