マイクロ波励起プラズマによる低誘電率/高誘電率薄膜形成プロセスの研究
CiNii
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書誌事項
- タイトル
- "マイクロ波励起プラズマによる低誘電率/高誘電率薄膜形成プロセスの研究"
- 責任表示
- 平山昌樹研究代表者
- 出版者
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- [平山昌樹]
- 出版年月
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- 2000.3
- 書籍サイズ
- 30cm
- タイトル別名
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- マイクロハ レイキ プラズマ ニヨル テイユウデンリツ/ コウユウデンリツ ハクマク ケイセイ プロセス ノ ケンキュウ
- 平成10-11年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書(研究課題番号10450111)
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130282269094166016
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- NII書誌ID
- BB03545665
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- 出版国コード
- ja
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- タイトル言語コード
- ja
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- 出版地
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- [仙台]
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- データソース種別
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- CiNii Books