書誌事項
- タイトル
- "Submicron lithography"
- 責任表示
- Phillip D. Blais, chairman/editor ; in cooperation with the International Society for Hybrid Microelectronics, the Northern California Microphotomask/Masking Working Group, the Materials Research Society, March 29-30, 1982, Santa Clara, California
- 出版者
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- International Society for Optical Engineering
- 出版年月
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- 1982
- 書籍サイズ
- 28 cm
- シリーズ名/番号
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- pbk.
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注記
Includes bibliographical references and indexes
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130282269153390464
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- NII書誌ID
- BA23966126
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- ISBN
- 0892523689
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- LCCN
- 82060280
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- Web Site
- https://lccn.loc.gov/82060280
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Bellingham, Wash.
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- 分類
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- LCC: TK7874
- DC19: 621.381/74
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- 件名
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- データソース種別
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- CiNii Books