Lithography for semiconductor manufacturing II : 30 May-1 June, 2001, Edinburgh, UK
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書誌事項
- タイトル
- "Lithography for semiconductor manufacturing II : 30 May-1 June, 2001, Edinburgh, UK"
- 責任表示
- Chris A. Mack, Tom Stevenson, chairs/editors ; sponsored and published by SPIE--the International Society for Optical Engineering ; cosponsored by Scottish Enterprise (UK) ; cooperating organizations EOS--European Optical Society, IEE--the Institution of Electrical Engineers (UK)
- 出版者
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- SPIE
- 出版年月
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- c2001
- 書籍サイズ
- 28 cm
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注記
Includes bibliographic references and author index
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130282269314038016
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- NII書誌ID
- BA61058008
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- ISBN
- 0819441058
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Bellingham, Wash.
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- データソース種別
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- CiNii Books