低周波プラズマCVD(TEOS+O[2])によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発

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書誌事項

タイトル
"低周波プラズマCVD(TEOS+O[2])によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発"
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研究代表者 伊達広行
出版者
  • [北海道大学医療技術短期大学部]
出版年月
  • 1994.3
書籍サイズ
26cm
タイトル別名
  • テイシュウハ プラズマ CVD TEOS+O[2] ニヨル シリコン サンカマク ノ テイオン ケイセイ プロセス カイハツ

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注記

課題番号: 04555018

[2]は下付き文字

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1130282269436074624
  • NII書誌ID
    BB01824227
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    ja
  • 出版地
    • [札幌]
  • データソース種別
    • CiNii Books
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