Electron-beam, X-ray, and ion-beam techniques for submicron lithographies II : March 14-15, 1983, Santa Clara, California

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タイトル
"Electron-beam, X-ray, and ion-beam techniques for submicron lithographies II : March 14-15, 1983, Santa Clara, California"
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Phillip D. Blais, chairman/editor ; sponsored by SPIE--the International Society for Optical Engineering in cooperation with National Bureau of Standards, International Society for Hybrid Microelectronics, Northern California Microphotomask/Masking Working Group
出版者
  • SPIE
出版年月
  • c1983
書籍サイズ
28 cm
シリーズ名/番号
  • pbk.

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注記

Includes bibliographical references and index

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