超高周波フォノンによるシリコン中の酸化誘起積層欠陥に関する研究

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書誌事項

タイトル
"超高周波フォノンによるシリコン中の酸化誘起積層欠陥に関する研究"
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研究代表者 宮里達郎
出版者
  • [九州工業大学]
出版年月
  • 1999.3
書籍サイズ
30cm
タイトル別名
  • チョウコウシュウハ フォノン ニヨル シリコンチュウ ノ サンカ ユウキ セキソウ ケッカン ニ カンスル ケンキュウ
  • 平成8年度〜平成10年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書

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注記

課題番号: 08455149

研究分担者: 浅野種正,. 孫勇

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1130282269924597120
  • NII書誌ID
    BA78322982
  • 本文言語コード
    en
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    ja
  • 出版地
    • [北九州]
  • データソース種別
    • CiNii Books
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