Electron-beam, X-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies III : March 15-16, 1984, Santa Clara, California
書誌事項
- タイトル
- "Electron-beam, X-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies III : March 15-16, 1984, Santa Clara, California"
- 責任表示
- Alfred Wagner, chairman/editor ; cooperating organization, the International Society for Hybrid Microelectronics
- 出版者
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- S.P.I.E.-- International Society for Optical Engineering
- 出版年月
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- c1984
- 書籍サイズ
- 28 cm
- シリーズ名/番号
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- pbk.
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130282270974214272
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- NII書誌ID
- BA23981458
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- ISBN
- 0892525061
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- LCCN
- 84050821
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- Web Site
- https://lccn.loc.gov/84050821
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Bellingham, Wash., USA
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- 分類
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- LCC: TK7874
- DC19: 621.3815/2
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- データソース種別
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- CiNii Books