Data analysis and modeling for process control : 26-27 February 2004, Santa Clara, California, USA
書誌事項
- タイトル
- "Data analysis and modeling for process control : 26-27 February 2004, Santa Clara, California, USA"
- 責任表示
- Kenneth W. Tobin, Jr., chair/editor ; sponsored ... by SPIE--the International Society for Optical Engineering ; cooperating organizations, SEMI--Semiconductor Equipment and Materials International [and] International SEMATECH
- 出版者
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- SPIE
- 出版年月
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- c2004
- 書籍サイズ
- 28 cm
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注記
Includes bibliographical references and index
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130282271333075200
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- NII書誌ID
- BA86005271
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- ISBN
- 0819452912
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- LCCN
- 2004303114
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- Web Site
- https://lccn.loc.gov/2004303114
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Bellingham, Wash., USA
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- データソース種別
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- CiNii Books