Electron-beam, x-ray & ion-beam techniques for submicrometer lithographies V : 11-12 March 1986, Santa Clara, California
書誌事項
- タイトル
- "Electron-beam, x-ray & ion-beam techniques for submicrometer lithographies V : 11-12 March 1986, Santa Clara, California"
- 責任表示
- Phillip D. Blais, chairman/editor
- 出版者
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- SPIE--the International Society for Optical Engineering
- 出版年月
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- c1986
- 書籍サイズ
- 28 cm
- シリーズ名/番号
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- pbk.
- タイトル別名
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- Electron-beam, x-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies V
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注記
Includes bibliographies and index
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1130282271787989888
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- NII書誌ID
- BA24022792
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- ISBN
- 089252667X
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- LCCN
- 86061034
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- Web Site
- https://lccn.loc.gov/86061034
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- 本文言語コード
- en
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- 出版国コード
- us
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- タイトル言語コード
- en
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- 出版地
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- Bellingham, Wash., USA
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- 分類
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- LCC: TK7874
- DC19: 621.3815/2
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- データソース種別
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- CiNii Books