Electron-beam, x-ray & ion-beam techniques for submicrometer lithographies V : 11-12 March 1986, Santa Clara, California

Web Site CiNii 所蔵館 6館

書誌事項

タイトル
"Electron-beam, x-ray & ion-beam techniques for submicrometer lithographies V : 11-12 March 1986, Santa Clara, California"
タイトル別名
  • Electron-beam, x-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies V
責任表示
Phillip D. Blais, chairman/editor
出版者
  • SPIE--the International Society for Optical Engineering
出版年月
  • c1986
書籍サイズ
28 cm
シリーズ名/番号
  • pbk.

この図書・雑誌をさがす

注記

Includes bibliographies and index

関連図書・雑誌

もっと見る

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1130282271787989888
  • NII書誌ID
    BA24022792
  • ISBN
    089252667X
  • LCCN
    86061034
  • Web Site
    https://lccn.loc.gov/86061034
  • 本文言語コード
    en
  • 出版国コード
    us
  • タイトル言語コード
    en
  • 出版地
    • Bellingham, Wash., USA
  • 分類
  • データソース種別
    • CiNii Books
ページトップへ