Electron-beam, X-ray, and ion-beam technology : submicrometer lithographies IX : 7-8 March 1990, San Jose, California
書誌事項
- タイトル
- "Electron-beam, X-ray, and ion-beam technology : submicrometer lithographies IX : 7-8 March 1990, San Jose, California"
- 責任表示
- Douglas J. Resnick, chair/editor ; sponsored by SPIE--the International Society for Optical Engineering
- 出版者
-
- SPIE
- 出版年月
-
- c1990
- 書籍サイズ
- 28 cm
この図書・雑誌をさがす
注記
Proceedings of the SPIE Symposium on Microlithography
Includes bibliographical references
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1130282272110747904
-
- NII書誌ID
- BA26792870
-
- ISBN
- 0819403105
-
- LCCN
- 90060893
-
- Web Site
- https://lccn.loc.gov/90060893
-
- 本文言語コード
- en
-
- 出版国コード
- us
-
- タイトル言語コード
- en
-
- 出版地
-
- Bellingham, Wash., USA
-
- データソース種別
-
- CiNii Books