紫外光励起を利用したシリコン基板へのエピタキシャル絶縁膜形成の基礎研究
CiNii
所蔵館 1館
書誌事項
- タイトル
- "紫外光励起を利用したシリコン基板へのエピタキシャル絶縁膜形成の基礎研究"
- 責任表示
- 研究代表者 中村哲郎
- 出版者
-
- 中村哲郎
- 出版年月
-
- 1988.3
- 書籍サイズ
- 26cm
- タイトル別名
-
- シガイコウ レイキ オ リヨウシタ シリコン キバン エノ エピタキシャル ゼツエンマク ケイセイ ノ キソ ケンキュウ
- 昭和62年度科学研究費補助金(一般研究B)研究成果報告書
この図書・雑誌をさがす
注記
研究課題番号: 61460124
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1130282272262523776
-
- NII書誌ID
- BA64063900
-
- 本文言語コード
- en
-
- 出版国コード
- ja
-
- タイトル言語コード
- ja
-
- 出版地
-
- [豊橋]
-
- 分類
-
- NDC8: 549.8
-
- データソース種別
-
- CiNii Books