Electron-beam, X-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies IV : March 14-15, 1985, Santa Clara, California

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タイトル
"Electron-beam, X-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies IV : March 14-15, 1985, Santa Clara, California"
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Philliip D. Blais, chairman/editor ; cooperating organization, the International Society for Hybrid Microelectronics
出版者
  • SPIE--the International Society for Optical Engineering
出版年月
  • c1985
書籍サイズ
28 cm
シリーズ名/番号
  • pbk.

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注記

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