Dry etching of Al-rich AlGaAs with silicon nitride masks for photonic crystal fabrication
収録刊行物
-
- Japanese Journal of Applied Physics
-
Japanese Journal of Applied Physics 54 (4), 042003-, 2015-03-06
IOP Publishing
- Tweet
詳細情報 詳細情報について
-
- CRID
- 1360003449889823872
-
- NII論文ID
- 210000144911
-
- ISSN
- 13474065
- 00214922
-
- データソース種別
-
- Crossref
- CiNii Articles