Challenges, developments and applications of silicon deep reactive ion etching
書誌事項
- 公開日
- 2003-06
- 権利情報
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- https://www.elsevier.com/tdm/userlicense/1.0/
- DOI
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- 10.1016/s0167-9317(03)00089-3
- 公開者
- Elsevier BV
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収録刊行物
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- Microelectronic Engineering
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Microelectronic Engineering 67-68 349-355, 2003-06
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