書誌事項
- タイトル別名
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- Effect of substrate temperature on a-Si:H thin films fabricated by double tubed coaxial line type microwave plasma CVD.
- ニジュウカンシキ ドウジク センロケイ マイクロハ プラズマ CVDホウ ニ
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抄録
記事分類: 電気工学--電子工学--電子部品--固体素子
収録刊行物
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- 電気学会論文誌． Ａ
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電気学会論文誌． Ａ 106 (8), 391-397, 1986
一般社団法人 電気学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001204592992000
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- NII論文ID
- 10006746565
- 130003425780
- 40002517135
- 10000013334
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- NII書誌ID
- AN10136312
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- ISSN
- 13475533
- 03854205
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- NDL書誌ID
- 3093357
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- NDL
- Crossref
- CiNii Articles