Development of New Ceria Slurry
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- Nakada Hideto
- Yushiro Chemical Industry Co., Ltd
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- Hamamoto Shinji
- Yushiro Chemical Industry Co., Ltd
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- Yokoyama Kenzo
- Yushiro Chemical Industry Co., Ltd
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- Doy Toshiroh
- Saitama University
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- Yoshioka Ken
- Kanagawa Industrial Technology Research Institute
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- Fujii Hisashi
- Kanagawa Industrial Technology Research Institute
Bibliographic Information
- Other Title
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- 新規酸化セリウム系CMP用スラリーの開発
- 新規砥粒の合成とその合成物の基本的加工特性
Description
酸化セリウムと酸化ジルコニウムの特性をともに生かした新規CMP用スラリーを開発した。この砥粒は、湿式合成により得られ、焼成·焼結することなく市販セリアスラリーと同等の加工性能を示す。焼成しないことから、この合成物の一次粒子径は、約10nmと小さく、スクラッチ等の発生低減が期待できる。
Journal
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- Proceedings of JSPE Semestrial Meeting
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Proceedings of JSPE Semestrial Meeting 2003S (0), 307-307, 2003
The Japan Society for Precision Engineering
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205648949376
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- NII Article ID
- 130004654932
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- Data Source
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- JaLC
- CiNii Articles
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- Abstract License Flag
- Disallowed