新規酸化セリウム系CMP用スラリーの開発

DOI
  • 中田 秀人
    ユシロ化学工業 技術第3部4課
  • 浜元 伸二
    ユシロ化学工業 技術第3部4課
  • 横山 健三
    ユシロ化学工業 技術第3部4課
  • 土肥 俊郎
    埼玉大学 教育学部 機械技術研究室
  • 吉岡 謙
    神奈川県産業技術総合研究所 材料工学部 ナノ材料チーム
  • 藤井 寿
    神奈川県産業技術総合研究所 材料工学部 ナノ材料チーム

書誌事項

タイトル別名
  • Development of New Ceria Slurry
  • 新規砥粒の合成とその合成物の基本的加工特性

抄録

酸化セリウムと酸化ジルコニウムの特性をともに生かした新規CMP用スラリーを開発した。この砥粒は、湿式合成により得られ、焼成·焼結することなく市販セリアスラリーと同等の加工性能を示す。焼成しないことから、この合成物の一次粒子径は、約10nmと小さく、スクラッチ等の発生低減が期待できる。

収録刊行物

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205648949376
  • NII論文ID
    130004654932
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2003s.0.307.0
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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