Standard for CD (Critical Dimension) Measurement (4th Report)

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Bibliographic Information

Other Title
  • 半導体の線幅標準に関する研究（第4報）
  • The Measurement of the Line Width by the STEM Dark Field Images
  • STEMの暗視野画像を用いた線幅測定

Description

半導体産業の高集積化において，回路線幅の計測と評価は大きな役割を果たす．しかし現在，半導体の回路線幅の測定に関して,明確な基準はなく，エッジの決め方で不確かさが生じてしまう．本報では，STEMの暗視野で撮影した画像を解析することで，線幅を測定したので報告する．

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Keywords

Details 詳細情報について

  • CRID
    1390001205652770688
  • NII Article ID
    130004658534
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2008a.0.247.0
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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