半導体の線幅標準に関する研究（第4報）
書誌事項
- タイトル別名
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- Standard for CD (Critical Dimension) Measurement (4th Report)
- The Measurement of the Line Width by the STEM Dark Field Images
- STEMの暗視野画像を用いた線幅測定
説明
半導体産業の高集積化において，回路線幅の計測と評価は大きな役割を果たす．しかし現在，半導体の回路線幅の測定に関して,明確な基準はなく，エッジの決め方で不確かさが生じてしまう．本報では，STEMの暗視野で撮影した画像を解析することで，線幅を測定したので報告する．
収録刊行物
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- 精密工学会学術講演会講演論文集
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精密工学会学術講演会講演論文集 2008A (0), 247-248, 2008
公益社団法人 精密工学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205652770688
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- NII論文ID
- 130004658534
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可
