Consideration of image reconstructing algorithm for EUV mask inspection, based on the X-ray diffraction imageing method

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  • Ｘ線回折顕微法によるEUVマスク像再生アルゴリズムの検討

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我々はEUVマスク欠陥検査を目的として、Ｘ線回折顕微法の原理に基づくCoherent EUV Scaterometrory Microscope （CSM）を開発している。CSMは結像光学系を用いず、波長13.5 nmのコヒーレント光をマスクに直接照射して得られた散乱光をCCDで記録する。画像処理により20 nm相当のマスクを評価する。本研究では画像処理に用いられる位相回復アルゴリズムについて検討した。

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  • CRID
    1390001205653288064
  • NII Article ID
    130005030162
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2010a.0.429.0
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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