大気圧プラズマによるチャネルカット単結晶シリコンの内壁エッチングの検討

DOI
  • 大坂 泰斗
    大阪大　工学研究科　精密科学・応用物理学専攻
  • 平野 嵩
    大阪大　工学研究科　精密科学・応用物理学専攻
  • 矢橋 牧名
    理化学研　放射光科学総合研究センター　ビームライン研究開発グループ
  • 佐野 泰久
    大阪大　工学研究科　精密科学・応用物理学専攻
  • 登野 健介
    高輝度光科学研究セ
  • 犬伏 雄一
    理化学研　放射光科学総合研究センター　ビームライン研究開発グループ
  • 佐藤 尭洋
    理化学研　放射光科学総合研究センター　ビームライン研究開発グループ
  • 小川 奏
    理化学研　放射光科学総合研究センター　ビームライン研究開発グループ
  • 松山 智至
    大阪大　工学研究科　精密科学・応用物理学専攻
  • 石川 哲也
    理化学研　放射光科学総合研究センター　ビームライン研究開発グループ
  • 山内 和人
    大阪大　工学研究科　精密科学・応用物理学専攻

抄録

硬X線用モノクロメータとして，その簡便さの為，チャネルカット結晶が多く使用されている．しかし内壁部表面近傍には，結晶学的なダメージが多く存在し，表面荒さも一般的な研磨表面には遠く及ばない．Ｘ線自由電子レーザー等，可干渉性の高い光源への適用の際，そのようなダメージは光源性能を劣化させる要因となり得る．我々は大気圧プラズマを用い，内壁表面のエッチングを試みた．本発表では基礎検討の結果を報告する．

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390001205654655872
  • NII論文ID
    130004661350
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2013a.0.653.0
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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