ITO thin film formation on flexible plastic films by RF magnetron sputtering

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  • RFマグネトロンスパッタリング法によるプラスチック基板へのITOの製膜

Abstract

フレキシブルエレクトロニクスに向けてプラスチック基板への電極材料の製膜は重要な要素技術である。本発表では、PEN(=Polyethylene naphthalate)基板上へのITO薄膜の製膜条件を最適化し、膜厚100 nmで<10-3 Ohm cmの低抵抗ITO薄膜を形成できたので報告する。

Journal

Details

  • CRID
    1390001205678296576
  • NII Article ID
    130005175512
  • DOI
    10.14886/sssj2008.36.0_132
  • Text Lang
    ja
  • Data Source
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • Abstract License Flag
    Disallowed

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