書誌事項
- タイトル別名
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- K35 Development of a High Pressure Chamber Type Double Side CMP Machine : CMP Characteristics of Si and SiC Wafers under Various Processing Atmospheres and Potential of Photocatalyst-assisted CMP
収録刊行物
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- 日本機械学会九州支部講演論文集
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日本機械学会九州支部講演論文集 2011.64 (0), 409-410, 2011
一般社団法人 日本機械学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390001205866150656
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- NII論文ID
- 110009666841
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- ISSN
- 24242780
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- Crossref
- CiNii Articles